地 址：大连保税区海航路9号
大连力迪供应芬兰KxS Technologies Oy半导体浓度监测仪
大连力迪供应芬兰KxS Technologies Oy半导体浓度监测仪，德国总部直接采购，近30年进口工业品经验,原装产品,支持选型，为您提供一对一好的解决方案：货期稳定，快速报价，价格优，设有8大办事处提供相关售后服务。
公司简介：
大连力迪供应芬兰KxS Technologies Oy 半导体浓度监测仪，
KxS Technologies 致力于先进、最现代的液体浓缩技术，帮助半导体、生物加工、食品、糖、化学品以及纸浆和造纸行业的广泛客户生产更多高质量的消费产品。
KxS 专注于在线浓度监测技术的开发，并不断通过 DCM 过程折射仪取得突破，该折射仪设计坚固、体积小，可确保任何液体过程的可靠性和准确性。
主要型号：
DCM-10
芬兰KxS Technologies Oy 半导体浓度监测仪产品介绍：
大连力迪供应芬兰KxS Technologies Oy 半导体浓度监测仪产品。
在整个晶圆厂分销链中，当需要平衡半导体化学浓度测量的成本、速度和准确性时，原位折射率已成为行业标准。KxS 半导体DCM-10 晶圆厂化学监测器经过设计，可以：
定义进料清洁化学品浓度和原始 CMP 浆料密度。
实现并确保在铜、钨和层间电介质平坦化应用中使用的胶体二氧化硅型 CMP 浆料中精确的 H2O2 浓度和 DI 水稀释度。
将浓度测量结果与缓冲氧化物蚀刻（BOE）等工艺中的晶圆蚀刻速率（ER）关联起来。
优化湿法带钢旋压工具中蚀刻后残留物消除剂（如 EKC265™）的使用寿命。
我们的半导体晶圆厂化学监测器适用于多种应用，包括：
SC-1 和 SC-2 的化学混合物校验和
使用 NH3 水混合物进行硬掩模蚀刻
使用 50% KOH 进行硅湿法蚀刻
使用 H2SO4:HNO3:H3PO4 混合物蚀刻钛
使用 HF:HNO3 混合溶液蚀刻背面聚合物
使用各种混合物进行 CMP 后清洁
我们的技术能够监测各种关键的半导体化学品，包括但不限于：
过氧化氢（H2O2）
氢氧化铵（NH3水）
稀氢氟酸（HF）
磷酸（H3PO4）
盐酸（HCl）
氢氧化钠（NaOH）
硫酸（H2SO4）
N-甲基吡咯烷酮（NMP）
四甲基氢氧化铵 (TMAH)
异丙醇 (IPA)
氢氧化钾（KOH）
硝酸（HNO3）
聚乙二醇 (PEG)
柠檬酸（C6H8O7）
乙酸（CH3COOH）
大连力迪供应芬兰KxS Technologies Oy 半导体浓度监测仪优势特点
Ø 所有测量功能都集成在传感器中——无需发射器
Ø 监测器适用于多种应用
Ø 测量输出选项包括模拟和数字通信协议
Ø 可以通过传感器的数字端口连接各种尺寸的外部显示器。使用带有网络浏览器的计算机、平板电脑或手机访问传感器的诊断和设置。
大连力迪供应芬兰KxS Technologies Oy 半导体浓度监测仪主要应用：
大连力迪供应芬兰KxS Technologies Oy 半导体浓度监测仪，利用 KxS Technologies 的先进解决方案和知识，在您的化学监测过程中体验精度和效率。。
